近日，2020年度北京市科學技術(shù)獎獲獎名單正式發(fā)布。該年度內(nèi)北京市科學技術(shù)獎共收到提名書633份，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司（以下簡稱“北方華創(chuàng)”）“12英寸先進集成電路制程電感耦合等離子刻蝕機研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目”，經(jīng)層層評選，喜獲北京市科學技術(shù)進步獎一等獎！

“12英寸先進集成電路制程電感耦合等離子刻蝕機研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目”是由北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司、上海集成電路研發(fā)中心有限公司、中科院微電子研究所共同完成的集成電路技術(shù)領(lǐng)域的科研成果。12英寸先進集成電路制程電感耦合等離子刻蝕機是北方華創(chuàng)歷經(jīng)多年自主創(chuàng)新，取得的突破性研發(fā)成果。該設(shè)備采用自主知識產(chǎn)權(quán)、大面積、低容性的新型高密度等離子體源系統(tǒng)設(shè)計，實現(xiàn)了刻蝕均勻性的精確控制，并通過高效穩(wěn)定的晶圓傳輸、顆粒和金屬污染控制等關(guān)鍵技術(shù)設(shè)計，提升了設(shè)備量產(chǎn)性能。目前，12英寸先進集成電路制程電感耦合等離子刻蝕機，已通過主流芯片生產(chǎn)線的工藝和量產(chǎn)驗證，并實現(xiàn)批量銷售。

       奮力譜華章，邁向新征程。12英寸先進集成電路制程電感耦合等離子刻蝕設(shè)備的研發(fā)和量產(chǎn)實現(xiàn)了我國集成電路刻蝕設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化與技術(shù)跨越，為中國集成電路產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進步提供了有力支撐。

       一年一度的北京市科學技術(shù)獎，是一份獎勵本市行政區(qū)域內(nèi)對科技創(chuàng)新和發(fā)展做出突出貢獻的組織和個人榮譽。此前，北方華創(chuàng)的“100納米等離子刻蝕機項目”、“大產(chǎn)能高亮度LED刻蝕機研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”、“磁控濺射設(shè)備（PVD）研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”、“燃料電池氣體流量控制系統(tǒng)”和 “12英寸28nm金屬硬掩膜物理氣相沉積設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”等多項產(chǎn)品和研發(fā)項目曾獲此殊榮。